10纳米鳍式晶体管架构FinFET工艺

发布时间:2020-08-16 06:59:21

10纳米鳍式晶体管架构FinFET工艺

技闻

【期刊名称】《集成电路应用》

【年(),期】2015(000)011

【摘要】FET的全名是场效应晶体管(Field Effect Transistor,FET),先从大家较耳熟能详的MOS来说明o MOS的全名是金属一氧化物一半导体场效晶体管(Metal OxideSemiconductor Field Effect Transistor,MOSFET),鳍式场效应晶体管是闸极长度缩小到20纳米以下的关键,拥有这个技术的制程与专利,才能确保未来在半导体市场上的竞争力,这也是让许多国际大厂趋之若骛的主因.创新半导体架构和制造工艺才是关键.

【总页数】3(22-24)

【关键词】晶体管架构;鳍式场效应晶体管;FinFET;10纳米工艺

【作者】技闻

【作者单位】

【正文语种】中文

【中图分类】TN303

【相关文献】

1.英特尔将在2017年底启动全新22纳米鳍式场效晶体管 [J],

2.响应速度打破纪录的纳米线晶体管可代替硅晶体管的砷化镓纳米线晶体管 [J],

3.鳍式场效晶体管寄生提取的复杂性 [J], Carey Robertson

4.互补MIS鳍式场效应晶体管(FinFET)的专利技术综述 [J], 张磊

5.鳍式场效应晶体管结合自热效应的电迁移分析 [J], 张骁竣; 季昊; 聂笔剑

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10纳米鳍式晶体管架构FinFET工艺

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